Платиновое целевое описание

Выбор и обработка материала

Мы используем платиновые материалы с высокой точкой прочткой с помощью таяния вакуумного индукции или таяния электронного луча, а затем подготовить, кататься, разрезать, отжигать, измельчить, полировать, полировать и чистить их перед производством. Наконец, мы проведем комплексную качественную проверку перед упаковкой и отправкой. Все наши продукты сертифицированы ISO и могут быть заказаны с уверенностью.

Характеристики

Высокая чистота и низкие примеси гарантируют, что в депонированной платиновой пленке есть хорошая производительность и стабильность.
Он может поддерживать хорошую химическую стабильность в коррозийных средах, таких как высокая температура, влажность, кислота и щелочи.
Высокая температура плавления, хорошая стабильность размеров при высокой температуре и нелегко деформировать.
Депонированная пленка имеет преимущества хорошей адгезии, низкой сопротивления и хорошей устойчивости к окислению.
Отличная электрическая и теплопроводность, высокая эффективность распыления.

Приложение

Платиновая мишень часто используется в полупроводниках, интегрированных цепях, солнечных элементах, оптических приборах, датчиках, электронных устройствах и других областях.

Полупроводниковое производство чипов

Материалы барьерного слоя и материалы транзисторных электродов, используемые в процессах соединения меди, могут снизить энергопотребление чипа и рабочие характеристики.

Покрытие оптических устройств

Используется для приготовления электродов или поверхностных отражающих слоев и легких слоев, чтобы обеспечить нормальную работу оптоэлектронных устройств в лазерной технологии, астрономических наблюдениях и спектрального анализа.

Газ и биосенсоры

Он используется для улучшения чувствительности внутренних компонентов и служить рабочим электродом, чтобы помочь обнаружить электрохимические реакции между биомолекулами и улучшить производительность обнаружения.

Новые энергетические транспортные средства

Катализаторы, используемые для изготовления водородных топливных элементов, используют технологию распыления магнетрона, чтобы сформировать нанокаталитический слой для ускорения реакции водорода-кислорода и снижения затрат.

Платиновые целевые спецификации:

Материал	Пт
Чистота	99.95%
Диаметр	50 мм
Толщина	0. 1 мм
Плотность	21,47 г/см³
Поверхность	Полированная, щелочная чистка, химическая очистка
Стандартный	ASTM, GB
Срок поставки	20 дней
Сертификация	ИСО 9001